上海碱性气体废气处理设备

上海碱性气体废气处理设备

碱性气体

NH3（氨气）

熔点-77.73摄氏度 沸点-33.33摄氏度

PH3（磷化氢，又名膦）

PH3 熔点-132.8摄氏度 沸点-87.5摄氏度

注意，N2H4（联氨）是碱性气体（二元弱碱）！其熔点为1摄氏度，沸点为113.5摄氏度。

上海碱性气体废气处理设备电子半导体行业酸碱性废气处理方法，推荐使用喷淋塔。这是因为半导体制造中产生的酸性和碱性废气采用分别收集、分别处理的方法，但处理设备和处理原理基本相同。

对于含有 酸性／碱性物质的废气，大都采用大型洗涤式中央废气处理系统进行处理。但是，有些情况下，由于半导体制造工作区域离中央废气处理系统距离较远，因此部分酸性／碱性废气在输送至中央废气处理系统前，常因气体特性导致在管路中结晶或粉尘堆积，造成管路堵塞后导致气体外泄，严重者甚至引发爆炸，危害现场工作人员的工作安全。

因此，在工作区域需配置适合制程气体特性的就地废气处理设备进行就地处理，之后再排入中央处理系统，而一些特殊的废气，包括剧毒、自燃、易爆等废气则需要先通过干式洗涤塔等设备通过吸附或氧化／燃烧等方法就地处理，之后再排人中央废气处理系统 。

1、酸碱性废气的来源

电子半导体行业中酸碱性废气的来源为化学清洗站，具有刺激性及有害人体，故酸碱性废气的处理方法一般是以湿式洗涤塔做水处理后再排入大气。洗涤塔利用床体或湿润的表面可以去除0.1微米以上的粒子。其气体与液体的接触方式有交叉（垂直交叉）流式、同向流式及逆向流式三种，而水流的设计上，有喷嘴式，喷雾式，颈式及拉西环式等四种。

2、以下半导体企业生产过程中产生的废气均可处理：

Ø 集成电路生产企业：主要包括数字集成电路板及模拟集成电路板生产企业。

Ø 分立器件生产企业：主要包括晶体二极管、三极管，整流二极管，功率二极管、化合物二极管等生产制造企业。

Ø 光电组件生产企业：包括LED、OLED、LCD、光伏太阳能等的生产制造企业。

由于半导体工艺对操作室清洁度要求*，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。

与半导体制造工艺相比，半导体封装工艺产生的废气较为简单，主要是酸性气体、环氧树脂及粉尘。酸性废气主要产生于电镀等工艺；烘烤废气则产生于晶粒粘贴、封胶后烘烤过程；划片机在晶片切割过程中，产生含微量矽尘的废气。